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加拿大名校平面设计专业留学条件

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2019如何申请加拿大平面设计专业留学

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  加拿大名校平面设计专业留学条件:

  1.阿尔伯塔艺术设计学院 / Alberta College of Art and Design

  阿尔伯塔艺术设计学院(ACAD)对加拿大20世纪视觉文化具有极其重要的贡献,它的很多毕业生作为艺术家 和设计者在加拿大乃至国际上赢得了极高的声誉。学院资产雄厚,年预算达到$12000000,也是加拿大仅有的四所可以颁发学位的公立艺术设计学院之一,ACAD 拥有宽敞的教室并采用小班式教学, 实行一对一的互动教学,学校通过各种技术、工具以及智力刺激等方法鼓励学生发现和开发他们的潜力和激情,为学生提供了一个有利于发展的开阔环境。

  语言:雅思6.5分,托福83分;

  作品集要求:1.Select 12 to 15 samples of your artwork.2.Include representational drawing examples, including one or two observational drawings of figure, landscape or still life.3.Include artwork created in a variety of mediums that explore different tools, techniques, and ideas.4.Demonstrate how you express ideas and concepts,preferably in work you’ve done on your own initiative outside of the classroom (for example, how do you respond creatively to current events, issues, or themes of personal interest?).

  2.安大略艺术设计学院 / OCAD University

  安大略艺术设计学院(OCAD University)是一所公立大学,学校坐落于加拿大安大略省多伦多市。学校毗邻Grange Park,横穿安大略艺术馆(Art Gallery of Ontario)。安大略艺术设计学院是全加拿大排名第一,历史最悠久,规模最大的艺术与设计教育机构,同时在北美40多所同类大学中高居前三名,长时间以来培养出了大量的艺术家和设计师,被誉为加拿大的“想象大学”。

  语言:雅思6.5分,托福80分

  作品集要求:1.Generate interest and excitement with the first piece;2.Be aware that current work best demonstrates your skill level;3.Be prepared to explain why a particular work was selected for inclusion in your portfolio, what it means to you and what you were trying to achieve;4.Be prepared to talk about any research and preparation you did for your final work;5.Research OCAD U ahead of time to show your level of interest and commitment to studying here.、

  3.诺瓦艺术设计大学 / NSCAD University

  诺瓦艺术与设计大学(NSCAD University) 位于加拿大东部新斯科舍省(Nova Scotia)首府哈利法克斯市(Halifax), 交通方便,是欧洲和美国进入加拿大的交汇点, 是加拿大的旅游胜地. 该校建于1887年, 迄今有120多年的建校历史. 作为北美地区建校最早的艺术类大学, 该校在视觉艺术领域在北美地区一直位于领先和核心地位, 为世界各地培养了众多的知名艺术家,包括肯尼迪家族的Garry Neill Kennedy等.由于该校在艺术领域所享有的崇高地位,每年吸引了众多来自欧洲亚洲美洲和非洲的艺术家, 学者和留学生. 我国也有知名的艺术家曾在该校深造. 原华南建设学院艺术设计系主任戴舒丰先生毕业于该校艺术设计专业,现任清华大学艺术设计系主任。

  语言:雅思6.5分,托福90分

  作品集要求:1.20 digital images or time-based* pieces of work completed that illustrates one’s material skills and conceptual development of ideas/theme.2.For Foundation applicants, images from a sketchbook/journal that was begun at least 3 months prior to the submission of the application must also be uploaded. The sketchbook/journal may include sketches, plans, drawings from observation, samples of creative writing, notes/observations made in response to other works (exhibitions, museums, novels, etc.), and explorations of mark-making with varied materials; and should demonstrate a sustained personal involvement in the exploration of ideas and images. The sketchbook should be documented by photograph or scan and uploaded as digital files to a maximum of 20 images.

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